(495)510-98-15
Меню
Главная »  Методы обработки материалов 

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 128 129 [ 130 ] 131 132 133 134 135 136 137 138 139 140 141 142 143 144 145 146 147 148 149 150 151 152 153 154 155 156 157 158 159 160 161 162 163 164 165 166 167 168 169 170 171 172 173 174 175 176 177 178 179 180 181 182 183 184 185 186 187 188 189 190 191 192 193 194 195 196 197 198 199 200 201 202 203 204 205 206 207 208 209 210 211 212 213 214 215 216 217 218 219 220 221 222 223 224 225 226 227 228 229 230 231 232 233 234 235 236 237 238 239 240

Оборудование для СЛО состоит из систем! генерации и передачи излучения, накачки и фокусировки, контроля параметров излучения, перемещения и наблюдения за заготовкой [12, 251.

Современные установки для СЛО снабжены также системой охлаждения рабочего тела для стабилизации энергетических параметров и характеристики излучения.

В табл. 4.9 даны технические характеристики установок на базе ТЛ, выпускаемых отечественной промышленностью [12, 16, 18, 25, 27, 34].


Рис. 4.8. Типовые схемы ОКГ на С02: а - с отпаянным рабочим объемом; б - с продольной прокачкой газа; е - с поперечной прокачкой

/ рабочий объем; 2 --зеркала резонатора, 3 система прокачки газа

Основные типы ГЛ! гелийнеоновые и на углекислом газе. Гелийнеоновые лазеры имеют газовую трубку длиной до 2 м и диаметром до 30 см, заполненную смесью гелия и неона под высоким давлением. При мощности излучения таких лазеров порядка 200-300 Вт диаметр луча может достигать 25 мм.

Перспективность применения ГЛ на С02 для технологических целей определяется их высоким КПД (до 25 %) по сравнению с ТЛ. Различают ГЛ с отпаянным рабочим телом и ГЛ с продольной и поперечной прокачкой (рис. 4.8).

Отпаянный ГЛ на СОг имеет мощность до 0,5 кВт; с ростом мощности ГЛ существенно растет длина резонатора и, следовательно, размеры установки.

Газовые лазеры с продольной прокачкой снабжены системой откачки и подачи рабочего газа. Мощность излучения такого лазера пропорциональна длине разрядной трубки. Для уменьшения габаритных размеров ГЛ применяют секционированные трубки, что снижает КПД лазеров из-за увеличения площади отражающих поверхностей в резонаторе. Мощность компактных установок не превышает 0,5 кВт.



В схеме с поперечной прокачкой рабочий газ не успевает нагреться в разрядном промежутке, что позволяет повысить энергию возбуждения без повышения эффективности систем охлаждения. Это дает выигрыш в КПД и в габаритных размерах установки

Средства технологического оснащения ПЗО по способу генерации низкотемпературной плазмы подразделяют на дуговые и высокочастотные. Они состоят из источников питания (ИП), плазмотронов и приспособлений для реализации процесса [3, 9, 20, 22].

Источники питания современных дуговых установок для ПЗО характеризуются падающими внешними статистическими вольт-амперными характеристиками (ВАХ) (рис. 4.9). Они выполняются на управляемых дросселях насыщения, тиристорных выпрямителях с обратной связью


Рис. 4.9. Типовые вольт-амперные характеристики (ВАХ):

/ * ИП; 2 - дуги (С в рабочая точка)


Рис. 4.10. Типовая схема ВЧ-ИП:

/ - анодный трансформатор; 2 - анодный выпрямитель; ГЛ - генераторная лампа; ТН - накальный трансформатор; Li - управляющая индуктивность; CI, L2, LS - разделительные емкость и индуктивности; С2-С4, L4-L8 - емкости и индуктивности анодного колебательного контура

по току, индуктивно-емкостных преобразователях и на ключевых стабилизаторах и полупроводниковых инверторах.

Для всех видов ПЗО заготовок в состав ИП входит генератор высоковольтных высокочастотных импульсов; осциллятор - для электрического пробоя промежутка электрод - изделие и возбуждения искрового разряда, который затем переходит в дуговой. Осциллятор разме-



щают по возможности ближе к плазмотрону для уменьшения уровня высокочастотных помех и предотвращения пробоя изоляции в цепях ИП и схемы управления.

Источники питания высокочастотных установок представляют собой ламповые генераторы мощностью 50- 200 кВт, работающие на частотах порядка нескольких мегагерц. Типовая схема такого ИП приведена на рис. 4.10.

Генераторы низкотемпературной плазмы - плазмотроны - классифицируют по группам в соответствии с методами генерации плазменных потоков. Различают

tth,B

S5 SO

200 250 300 !,A


200 250 300 LA

Рис. 4.11 Вольт-амперные характеристики (а) и тепло-:вой КПД (б) плазмотрона !(МП-6 при различных расходах плазмообразующего газа [11]: 2

QD>t] = 1,62 г/с; 3 1.15 г/с

плазмотроны на постоянном и переменном токе, высокочастотные (ВЧ) и сверхвысокочастотные (СВЧ) плазмотроны, а также комбинированные (например, дуговой ВЧ плазмотрон).

Плазмотроны постоянного тока подразделяют на одно-дуговые и многодуговые; выделяют плазмотроны прямого и косвенного действия в зависимости от места фиксаций опорных пятен дугового разряда. В плазмотронах прямого действия по крайней мере одно опорное пятно располагается на обрабатываемом материале. В плазмотронах косвенного действия все опорные пятна располагаются внутри плазмотрона; такие плазмотроны носят название струйных, так как они предназначены для генерации плазменных струй.

Технологические параметры плазмотронов зависят от типа обдува электрической дуги в разрядном канале. При этом различают плазмотроны с продольно и поперечно обдуваемой дугой, а также некоторые специальные схемы, имеющие промежуточный характер. Стабилизация дуги



1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 128 129 [ 130 ] 131 132 133 134 135 136 137 138 139 140 141 142 143 144 145 146 147 148 149 150 151 152 153 154 155 156 157 158 159 160 161 162 163 164 165 166 167 168 169 170 171 172 173 174 175 176 177 178 179 180 181 182 183 184 185 186 187 188 189 190 191 192 193 194 195 196 197 198 199 200 201 202 203 204 205 206 207 208 209 210 211 212 213 214 215 216 217 218 219 220 221 222 223 224 225 226 227 228 229 230 231 232 233 234 235 236 237 238 239 240



© 2018 ООО "Стрим-Лазер": Лазерная гравировка.
Все права нотариально заверены. Копирование запрещено.