(495)510-98-15
Меню
Главная »  Методы обработки материалов 

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 128 129 130 131 132 133 134 135 136 137 138 139 140 141 142 143 144 145 146 147 148 149 150 151 152 153 154 155 [ 156 ] 157 158 159 160 161 162 163 164 165 166 167 168 169 170 171 172 173 174 175 176 177 178 179 180 181 182 183 184 185 186 187 188 189 190 191 192 193 194 195 196 197 198 199 200 201 202 203 204 205 206 207 208 209 210 211 212 213 214 215 216 217 218 219 220 221 222 223 224 225 226 227 228 229 230 231 232 233 234 235 236 237 238 239 240

эио

мио

Поверхностное упрочнение

Снятие или перераспределение остаточных напряжений.

Штампов на

- Сварка

Вырубка

Пробивка

Обрезка

Отрезка

Вытяжка

Рельефная Формовка

ОтВортоВка

Обжим

Раздача

Штамповка

Рис. 6.1. Классификация методов и операций ЭИО пластическим деформированием


Рис. 6.2. Принципиальная схема ЭГИО: / ввтсоковольтный трансформатор; 2 - выпрямитель; 3 - сопротивление, ограничивающее ток зарядки; 4 - конденсаторная батарея: 5 - разрядник; 6 - разрядная камера; 7 - рабочая жидкость; В электроды; 9 изолятор; 10 * заготовка; 11 матрица



6.1. Стадии высоковольтного разряда в жидкости при ЭГИО

Характер и механизм протекания стадии

Зависимость

1. Предпробой-ная - образование плазменного токо-проводящего канала в межэлектродном промежутке (МЭП)

Тепловой механизм образования плазменного кзнала в результате нагрева рабочей жидкости током, возникающим в ней за счет напряжения U9 на электродах

£ < 360 кВ/м

Лидерный механизм образования плазменного канала за счет лавины электронов, стремящихся от положительного к отрицательному электроду, ха- растеризующийся минимальным значением напряжения иэ т-т на электродах

Е > 360 кВ/м; иэ min - 18х

Х1 г/г 1п-Е в

2. Электрический разряд в жидкости - передача энергии конденсаторной батареи в канал разряда, нагрев н повышение давления плазмы, возбуждение волн сжатия, образование гидропотока

Разряд периодический: разрядный ток / (т) изменяет свое направление, а энергия W (т) выделяется в течение нескольких периодов (рнс. 6.3, а-в)

пр. opt = 6.82 X XlO-*£/co4/Lp.Kc6:

Скр = 4L p. K/i?;

V = 0,27 00 X прьр. к

X t (сб/скР):

R (Т) = UB (X)/I (Т); Р (т) = Ug (т) / (Т);

>

W(T) = j Р (Т) йх 0

Разряд апериодический: нет колебаний тока / (х)

Разряд критический: переход от периодического разряда к апериодическому при дальнейшем уменьшении сопротивления R (т) канала. Ток / (т) может однократно менять направление (рис. 6.3. г)

3. Послеразряд-ная стадия - формирование на поверхности обрабатываемой заготовки силового поля

Силовое поле образуется за счет передачи заготовке энергии волн давления (прямых и отраженных от стенок разрядной камеры) и энергии сопутствующих потоков

Тр = JTjLp кСб; W = Wc + + ЧГ)]

Примечания: 1. В формулах Е - напряженность электрического поля в МЭП, кВ/м; /пр - длина МЭП, м; г& - радиус закругления острия электрода, м; Скр - критическая емкость конденсаторной батареи, при которой режим разряда критический, Ф; Ra - активное сопротивление разрядного контура, См; у = Р'/пр - относительная скорость нарастания электрической мощности при разряде, Вт/(сХ Хм); / (С6/Скр) - функция режима разряда, а при 0,ЗСкр < Cg < Скр f (Cg/Cpp) 1; т длительность разряда, с; W - энергия, выделившаяся в МЭП, Дж; Т]э, т]а, г>г - электрический, акустический и гидравлический КПД процесса. 2. Предпочтнтелы ы разряды, близкие к критическим, когда почти вся энергия W (Т) выделяется в первый полупе-рнод тока / (т). При этом значение акустического КПД максимальное за счет оптимальной длины МЭП (/пр opt)-



6.2. Параметры, характеризующие вторую и третью стадии разряда по табл. 6.1 [1, 12, 15, 18, 19]

Параметр

Зависимость

Начальная температура плазмы, к

t = 56y1/6

Начальная скорость расширения канала разряда, м/с

о= 7,9.10-У'25

Скорость фронта волны сжатия, м/с

иф = 7,5-102 [1 + (1 + 4,4Х X ю-у.5)0.5]

Начальное давление на фронте волны сжатия, МПа

рф= 6,4.10V*

Давление в волне сжатия для короткой цилиндрической и сфе- рической моделей разряда, МПа

c*=10-V(C6Xp.k),/s

Давление в волне сжатия для цилиндрической модели разряда значительной длины, МПа

Ртах 0,46.10-%°-5pf X

x(№/Ms/f43/4

Давление первичной волны сжатия, действующей на заготовку при штамповке с использованием камер малого объема (VK < 10-? м8) с электродной системой линейной геометрии, МПа

/W= 2,13-10 (И7.10-з)ы X

Х(Ь 10з)-0,73>к.1о3)-°.Б16х

w 1+0,6(/-г/гк)* X 1,2

Примечание. В формулах - расстояние до точки, в которой определяется давление, м; - плотность рабочей жидкости, кг/мя; Уд - объем, высвобождаемый при деформировании заготовки, м8; -

радиальная координата точки на заготовке, в которой определяется давление, м; гк - радиус выходного сечения разрядной камеры, м.



1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 128 129 130 131 132 133 134 135 136 137 138 139 140 141 142 143 144 145 146 147 148 149 150 151 152 153 154 155 [ 156 ] 157 158 159 160 161 162 163 164 165 166 167 168 169 170 171 172 173 174 175 176 177 178 179 180 181 182 183 184 185 186 187 188 189 190 191 192 193 194 195 196 197 198 199 200 201 202 203 204 205 206 207 208 209 210 211 212 213 214 215 216 217 218 219 220 221 222 223 224 225 226 227 228 229 230 231 232 233 234 235 236 237 238 239 240



© 2018 ООО "Стрим-Лазер": Лазерная гравировка.
Все права нотариально заверены. Копирование запрещено.