(495)510-98-15
|
Меню
|
Главная » Методы обработки материалов 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 [ 127 ] 128 129 130 131 132 133 134 135 136 137 138 139 140 141 142 143 144 145 146 147 148 149 150 151 152 153 154 155 156 157 158 159 160 161 162 163 164 165 166 167 168 169 170 171 172 173 174 175 176 177 178 179 180 181 182 183 184 185 186 187 188 189 190 191 192 193 194 195 196 197 198 199 200 201 202 203 204 205 206 207 208 209 210 211 212 213 214 215 216 217 218 219 220 221 222 223 224 225 226 227 228 229 230 231 232 233 234 235 236 237 238 239 240
Примечание. Знаком + отмечена возможность реализации. димые примеси атомов хрома, неодима, тулия или гольмия. В неодимовом стекле атомы неодима равномерно распределены по объему. В табл. 4.4 приведены составы рабочих веществ газовых ОКГ (ГЛ) и ТЛ, а также соответствующие методы накачки. Технологические параметры ПЗО определяются в ос новном параметрами потока низкотемпературной плазмы. К ним относятся: тепловой поток, среднемассовая температура и скорость истечения, а также распределение этих величин в области рабочей зоны (рис. 4.3 и 4.4) [8, 9, 20, 31 ]. В табл. 4.5 приведены свойства некоторых катод ных материалов для плазмен ных генераторов. Табл. 4.6 [281 и рис. 4.5 иллюстрируют характер эрозионных процессов на электродах в различных плазмообразующих средах. 3 Ц/с/г 100 Z00 300 500 I,A Рис. 4.3. Температурные характеристики плазменной струи:. /-3 - плазмотрон ГН-5р; 4 - плазмотрон с межэлектродными вставками
Эффективная реализация процессов ПЗО предполагает оптимизацию всех стадий их осуществления. Выделяют четыре такие стадии 111]: ввод электроэнергии в зону обработки, возбуждение и стабилизацию электрического разряда, ввод плазмообразующей среды и материала и вывод готового продукта. 500 300
150 200 250 U 4 вВозВ, /4 Щоз1,м/с Рис. 4.4. Зависимости скорости истечения воздушной плазменной струи vБ03Д от: тока дуги (с); расхо а плазмообра-зующего воздуха (б) и диаметра канала сопла (в) 3 dc,№ Наиболее распространенный способ ввода энергии - возбуждение разряда между электродами, разряд может быть дуговым, тлеющим, коронным и высокочастотным. Кроме того, используется метод формирования разряда в электромагнитном потоке. При этом различают высокочастотные емкостной, коронный и факельный, а также СВЧ-разряды. 4.6. Характеристики эрозии некоторых электродных материалов
|
© 2024 ООО "Стрим-Лазер": Лазерная гравировка.
Все права нотариально заверены. Копирование запрещено. |