(495)510-98-15
Меню
Главная »  Методы обработки материалов 

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 [ 128 ] 129 130 131 132 133 134 135 136 137 138 139 140 141 142 143 144 145 146 147 148 149 150 151 152 153 154 155 156 157 158 159 160 161 162 163 164 165 166 167 168 169 170 171 172 173 174 175 176 177 178 179 180 181 182 183 184 185 186 187 188 189 190 191 192 193 194 195 196 197 198 199 200 201 202 203 204 205 206 207 208 209 210 211 212 213 214 215 216 217 218 219 220 221 222 223 224 225 226 227 228 229 230 231 232 233 234 235 236 237 238 239 240

Тип катодного узла

max-

А

АС, г/ л

Ресурс,

ZrB2 в защитной среде

W + ТЮ2 в защитной среде

Металлокерамика с присадкой

W + Cs (в термоэмиссионных преобразователях)

Вольфрамовый полый катод в вакууме

Но, ,К


7777?


77777,


7777777


77777777

2-I02

1 ю-?-I -10-5

7-102

3.10-9-1.Ю-8

1.10-и-I. Ю-6

Не ограничен

8-10-ц

3-103



Ввод плазмообразующей среды характеризуется геометрией потока относительно электродов. Различают аксиальный, тангенциальный, распределенный и трансгш-рационный ввод. Выбор конкретного способа ввода плазмообразующей среды определяется обычно конструкцией плазменного генератора применительно к конкретному процессу.

При ПЗО дисперсных материалов их вводят либо в зону обработки, минуя плазменный поток, либо непоеред-

Рис. 4.5. Зависимость эрозии катодов ДО (конструкция электрода приведена вверху справа) от числа включении п при режиме: тгор/тпауз = 12, / = = 200 A, dc - 4 мм (тгор - время горения дуги; тпауз - промежуток времени между включе-нями); доверительная область измерения заштрихована

к

я

щ

А

г I I I L I L J

0 50 100 150 и.

, число включений

ственно в последний. Отдельные способы ввода принято классифицировать по взаимному расположению направлений подачи материала и перемещения плазменного потока. При этом выделяют попутную и встречную подачу, а также подачу под острым углом. Вывод готового продукта осуществляется периодически или непрерывно пу-: тем осаждения, охлаждения или закалки.

4.3. СРЕДСТВА

ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОСНАЩЕНИЯ

Оборудование для ЭЛО является, как правило, специализированным. В его состав входят блоки формирования,: стабилизации и управления электронным пучком; работая камера; вакуумная система; системы перемещения заготовки и наблюдения за ходом процесса, а также защиты персонала от рентгеновского излучения [21, 341.

Основным блоком формирования и управления является электронная пушка (рис. 4.6). Современные методы; фокусировки луча позволяют достичь значительных плот-, ностей энергии, составляющих 5-1012Вт/м2 в фокусе.

13 П/р В. А. Волосатова



Использование катода с косвенным подогревом позволяет получить более равномерное распределение тока

эмиссии по сравнению g катодом прямого накала. Ускоряющая система электронной пушки (прожектор) помимо катода и анода имеет управляющий электрод (модулятор), который позволяет регулировать силу тока в пучке. В электронной пушке предусматривают систему защиты от пробоя ускоряющего промежутка. Это особенно важно при U> 60 кВ.

На рис. 4.7 приведена структурная схема блока питания, который обеспечивает стабилизацию ускоряющего напряжения и силы тока в пучке, модуляцию пучка, а также выдает напряжения на фокусирующую и отклоняющую системы пушки.

В табл. 4.7 приведена классификация электронных пушек по ускоряющим напряжениям.


Рис. 4.6. Принципиальная схема электронной пушки (прожектора):

/ ускоряющие электроды; 2 * катод; 3 - электронный луч; 4 фокусирующий электромагнит; ИПН - источник питания накала; ИВН источник высокого напряжения (стрелками показаны направления электрического и магнитного полей)

Преобразователь высокого напряжения !

Стабилизация ускоряющего напряжения и сила тона в пучке

Модуляция пучна

Фокусировка и отняонение пучка

Управление, задание программы, контроль

Рис. 4.7. Блок-схема питания электронной пушки

В вакуумной камере поддерживается вакуум порядка Ю-4-10т1 Па; для этого требуется получение достаточно



1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 [ 128 ] 129 130 131 132 133 134 135 136 137 138 139 140 141 142 143 144 145 146 147 148 149 150 151 152 153 154 155 156 157 158 159 160 161 162 163 164 165 166 167 168 169 170 171 172 173 174 175 176 177 178 179 180 181 182 183 184 185 186 187 188 189 190 191 192 193 194 195 196 197 198 199 200 201 202 203 204 205 206 207 208 209 210 211 212 213 214 215 216 217 218 219 220 221 222 223 224 225 226 227 228 229 230 231 232 233 234 235 236 237 238 239 240



© 2018 ООО "Стрим-Лазер": Лазерная гравировка.
Все права нотариально заверены. Копирование запрещено.